單靶磁控濺射儀

       KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

   此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

單靶磁控濺射儀  主要特點：

• 可制備多種薄膜，應用廣泛

• 體積小，操作簡便

• 真空腔室、真空泵組整機模塊化設計 ，控制電源為分體式設計，可根據用戶實際需要調整購買需求。

• 可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍

磁控濺射頭：

• 儀器中安裝有3個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層

• 其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材

• 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材

• 可以單獨訂購RF連接線作為備用

• 設備包含一臺水冷機，用于靶頭冷卻

載樣臺：

• 載樣臺可以旋轉

• 載樣臺高可加熱溫度

真空腔體：

• 真空腔體：采用不銹鋼制作

• 觀察窗口：

• 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

薄膜測厚：

• 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?

• LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據